Ibm zou de sleutel hebben om chips van meer dan 7 nm te produceren

Big Blue heeft nieuwe materialen en processen ontwikkeld die de efficiëntie van de chipproductie op het 7nm-knooppunt en toekomstige knooppunten kunnen helpen verbeteren.

IBM en zijn 'gebiedselectieve afzetting' proberen de productie-efficiëntie op 7 nm en daarbuiten te verbeteren

De Big Blue- kisten werken in een gebied dat "gebiedselectieve afzetting" wordt genoemd, wat naar hun mening zou kunnen helpen de beperkingen van lithografische technieken te overwinnen om patronen op silicium te creëren in 7nm-processen.

Technieken zoals "multi-patroonvorming" zorgden ervoor dat IC's bleven schalen, maar omdat de chips zijn gekrompen van 28 nm tot 7 nm, moesten chipmakers meer lagen verwerken met steeds kleinere functies die preciezere plaatsing in patronen.

Een van de problemen is dat de uitlijning tussen lagen is dat, als het verkeerd wordt gedaan, dit leidt tot een "edge placement error" (EPE). In 2015 merkte Intel-lithografiedeskundige Yan Borodovsky in de notulen op dat dit een probleem was dat lithografie niet kon oplossen.

Hij suggereerde dat selectieve oppervlakteafzetting een betere gok was, dus IBM-onderzoekers begonnen het te herzien.

De nieuwe techniek van IBM zou de EUV-technologie van Samsung vervangen

Dit zou een opvolger kunnen zijn van EUV-lithografie, de techniek die Samsung voorbereidt op zijn volgende 7nm en zelfs 5nm chips. Dit zou ons niet moeten verbazen, aangezien IBM in 2015 de eerste ter wereld was die chips produceerde op een 7 nanometer knooppunt.

Rudy Wojtecki, een onderzoeker bij IBM's Almaden Research Center, zei dat het bij traditionele fabricagemethoden nodig zou zijn om een ​​substraat met resistief te coaten, het resistieve model te modelleren door middel van een belichtingsstap, het beeld te ontwikkelen en een anorganische film af te zetten en vervolgens het resistief verwijderen om het een anorganisch materiaal met een patroon te geven.

De groep gebruikt een van de drie belangrijkste methoden voor gebiedselectieve depositie, genaamd "depositie van atoomlagen", met de nadruk op het gebruik van "zelf-geassembleerde monolagen" (SAM).

Het klinkt allemaal heel technisch, we weten het, maar het zal hoogstwaarschijnlijk de toekomst zijn van CPU-productie in de komende jaren, nadat 7nm-processors onze pc's hebben bereikt, wat niet ver weg is.

Fudzilla-lettertype