Samsung heeft zijn productieproces al klaar bij 8 nm

Samsung is een van de wereldleiders in de productie van siliciumchips en is niet van plan de handdoek in de ring te gooien, de Zuid-Koreaanse gigant is al klaar voor een nieuw, verfijnder productieproces om de prestaties van zijn chips en die van derden die hun toevlucht nemen tot zijn gieterij.

Samsung heeft de 8 nm al klaar

Samsung heeft officieel onthuld dat het nieuwe 8nm LPP (Low Power Plus) productieproces klaar is voor de productie van de eerste chips, dit nieuwe proces biedt een prestatieverbetering van 10% ten opzichte van het huidige 10nm-proces van het bedrijf en tot 10% oppervlaktevermindering van transistors.

Dit knooppunt is een verfijning van Samsungs bestaande 10nm-productieknooppunt, wat dit proces eigenlijk 10nm + maakt, maar er wordt een naamswijziging toegepast voor marketing, aangezien we ons herinneren dat er geen standaard is als het gaat om Meet de grootte van de transistors zodat elke gieterij het anders kan uitdrukken. Dit betekent dat de productieprocessen van twee bedrijven heel verschillend kunnen zijn, ondanks dat ze blijkbaar dezelfde nm zijn.

NVIDIA-CEO zegt dat de wet van Moore dood is en dat GPU's CPU's zullen vervangen

De voordelen van dit nieuwe procesknooppunt zijn dat het voortbouwt op de bestaande technologie van Samsung, waardoor Samsung de 8nm-productie snel kan versnellen door de bestaande 10nm-technologie aan te passen. Samsung heeft ook drie maanden eerder dan gepland de kwalificatie met dit nieuwe knooppunt kunnen behalen, waardoor het bedrijf 8nm functionele chips eerder dan gepland kon produceren.

8nm wordt het laatste knooppunt van Samsung voorafgaand aan zijn verhuizing naar EUV (Extreme Ultra Violet) met zijn 7nm-fabricageknooppunt, wat een nieuw tijdperk voor de wet van Moore inluidt, waardoor fabrikanten enkele van de beperkingen die zijn verijdelen vooruitgang in de industrie.

7LPP zal de eerste halfgeleiderprocestechnologie zijn die een EUV-lithografieoplossing gebruikt. De gezamenlijke inspanning van Samsung en ASML heeft 250 W aan maximaal EUV-vermogen ontwikkeld, wat de belangrijkste mijlpaal is voor het invoegen van EUV in grootschalige productie. De inzet van EUV-lithografie zal de barrières van de wetsschaal van Moore doorbreken en de weg vrijmaken voor generaties van single nanometer halfgeleidertechnologie.

Overclock3d lettertype